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武田 全康
応用物理学会埋もれた界面のX線・中性子解析グループ第1回講習会「X線反射率法による薄膜・多層膜の解析」テキスト; X線反射率法入門, p.58 - 77, 2007/00
現在、X線反射率法と中性子反射率法は薄膜や人工多層膜の厚さ方向のナノスケールの構造解析法として広く使われている。これら2つの手法は層状構造を持つ物質の内部構造に関して同じような情報を与えるが、X線にはない特徴を中性子は持っている。すなわち、(1)たいていの物質に対して透過力が大きい、(2)周期律表で隣り合う元素に対してさえも、散乱ポテンシャルの大きなコントラストを持つこと、(3)同じ元素でも同位体に対しては散乱ポテンシャルが異なること、(4)物質の持つ磁気モーメントに対して感度を有することである。この章では、X線反射率法との比較という観点から中性子反射率法の入門的な解説を行う。